Spelling suggestions: "subject:"gallium fim"" "subject:"allium fim""
1 |
Investigation of heavy metal determination using electroanalytical stripping analysis / Sunkiųjų metalų inversinio elektroanalizinio nustatymo tyrimaiVerbickas, Rolandas 23 January 2014 (has links)
In this work the gallium and bismuth film plating in situ and ex situ processes were investigated. The metal film plating conditions for determination of heavy metals in water samples were optimized.
When depositing Bi films on glassy carbon electrode it was found, that the addition of Br-1 changes the BiFE morphology making it more uniform and forming crystalline aggregates. The reoxidation peak of Bi was shifted to more negative potentials showing the electrocatalytic effect of bromide for the bismuth film. The addition of the other metal ions to the deposition solutions caused changes in the morphology of the Bi film It has been shown, that Cd was slowing the Bi film deposition and Pb was catalyzing this deposition. Zn(II), Cd(II), Cu(II) and Pb(II) ions were determined in the water samples using bismuth film electrode. The linear calibration curve of each metal was obtained. Good linear responses of the peak area vs. concentration were obtained for Zn(II), Cd(II), Pb(II) and Cu (II) with correlation coefficients of 0.997, 0.997, 0.999 and 0.998 respectively.
The possibilities of gallium film plating were studied. The glassy carbon substrate was chosen for optimization. The optimized deposition conditions were: supporting electrolyte 0.1 M acetate buffer, deposition potential -1.7 V, deposition time 120 s, deposition temperature 40oC. The gallium influence on Pb(II) and Cd(II) deposition at the glassy carbon electrode was studied. It has been shown that Pb(II) and Cd(II)... [to full text] / Šiame darbe tiriama galio ir bismuto plėvelinių elektrodų formavimo in situ ir ex situ metodais ypatumai skirtingose sistemose. Optimizuotos bismuto ir galio plėvelinių elektrodų panaudojimo sąlygos sunkiųjų metalų koncentracijos nustatymui.
Atliekant bismuto plėvelės nusodinimą ant stikliškosios anglies elektrodo nustatyta, kad papildomas Br- pridėjimas į tiriamąjį tirpalą keičia bismuto plėvelės morfologines savybes ir formuojasi tolygesnė bismuto plėvelė sudarydama kristalines struktūras. Reoksidacinė bismuto smailė pasislenka į neigiamesnių potencialo verčių pusę, kas rodo elektrokatalizinį Br- efektą bismuto plėvelės formavimuisi. Nustatyta, kad Cd(II) pridėjimas į tiriamąjį tirpalą lemia lėtesnį bismuto plėvelės nusodinimą, o Pb(II) pridėjimas katalizuoja bismuto plėvelės nusodinimą. Taip pat nustatyta, kad Pb(II) katalizuoja ir kitų metalų jonų nusodinimą. Bismuto plėvelinis elektrodas sėkmingai pritaikytas sunkiųjų metalų Cu(II), Zn(II), Pb(II), Cd(II) koncentracijos nustatymui pramoniniuose vandens mėginiuose. Gautos Zn(II), Cd(II), Cu(II) ir Pb(II) kalibravimo kreivės, kurių korealiacijos koeficientai atitinkamai yra 0,997, 0,997, 0,999 ir 0,998.
Optimizuotos galio plėvelės nusodinimo sąlygos ant stikliškosios anglies elektrodo. Geriausi rezultatai gauti atliekant galio plėvelės nusodinimą 0,1 M acetatiniame buferyje (pH = 4,5) 40o C temperatūroje. Optimizuotas nusodinimo laikas ir potencialas atitinkamai yra 120 s ir -1,7 V. Tiriant galio jonų įtaką Pb(II) ir... [toliau žr. visą tekstą]
|
2 |
Sunkiųjų metalų inversinio elektroanalizinio nustatymo tyrimai / Investigation of heavy metal determination using electroanalytical stripping analysisVerbickas, Rolandas 23 January 2014 (has links)
Šiame darbe tiriama galio ir bismuto plėvelinių elektrodų formavimo in situ ir ex situ metodais ypatumai skirtingose sistemose. Optimizuotos bismuto ir galio plėvelinių elektrodų panaudojimo sąlygos sunkiųjų metalų koncentracijos nustatymui.
Atliekant bismuto plėvelės nusodinimą ant stikliškosios anglies elektrodo nustatyta, kad papildomas Br- pridėjimas į tiriamąjį tirpalą keičia bismuto plėvelės morfologines savybes ir formuojasi tolygesnė bismuto plėvelė sudarydama kristalines struktūras. Reoksidacinė bismuto smailė pasislenka į neigiamesnių potencialo verčių pusę, kas rodo elektrokatalizinį Br- efektą bismuto plėvelės formavimuisi. Nustatyta, kad Cd(II) pridėjimas į tiriamąjį tirpalą lemia lėtesnį bismuto plėvelės nusodinimą, o Pb(II) pridėjimas katalizuoja bismuto plėvelės nusodinimą. Taip pat nustatyta, kad Pb(II) katalizuoja ir kitų metalų jonų nusodinimą. Bismuto plėvelinis elektrodas sėkmingai pritaikytas sunkiųjų metalų Cu(II), Zn(II), Pb(II), Cd(II) koncentracijos nustatymui pramoniniuose vandens mėginiuose. Gautos Zn(II), Cd(II), Cu(II) ir Pb(II) kalibravimo kreivės, kurių korealiacijos koeficientai atitinkamai yra 0,997, 0,997, 0,999 ir 0,998.
Optimizuotos galio plėvelės nusodinimo sąlygos ant stikliškosios anglies elektrodo. Geriausi rezultatai gauti atliekant galio plėvelės nusodinimą 0,1 M acetatiniame buferyje (pH = 4,5) 40o C temperatūroje. Optimizuotas nusodinimo laikas ir potencialas atitinkamai yra 120 s ir -1,7 V. Tiriant galio jonų įtaką Pb(II) ir... [toliau žr. visą tekstą] / In this work the gallium and bismuth film plating in situ and ex situ processes were investigated. The metal film plating conditions for determination of heavy metals in water samples were optimized.
When depositing Bi films on glassy carbon electrode it was found, that the addition of Br-1 changes the BiFE morphology making it more uniform and forming crystalline aggregates. The reoxidation peak of Bi was shifted to more negative potentials showing the electrocatalytic effect of bromide for the bismuth film. The addition of the other metal ions to the deposition solutions caused changes in the morphology of the Bi film It has been shown, that Cd was slowing the Bi film deposition and Pb was catalyzing this deposition. Zn(II), Cd(II), Cu(II) and Pb(II) ions were determined in the water samples using bismuth film electrode. The linear calibration curve of each metal was obtained. Good linear responses of the peak area vs. concentration were obtained for Zn(II), Cd(II), Pb(II) and Cu (II) with correlation coefficients of 0.997, 0.997, 0.999 and 0.998 respectively.
The possibilities of gallium film plating were studied. The glassy carbon substrate was chosen for optimization. The optimized deposition conditions were: supporting electrolyte 0.1 M acetate buffer, deposition potential -1.7 V, deposition time 120 s, deposition temperature 40oC. The gallium influence on Pb(II) and Cd(II) deposition at the glassy carbon electrode was studied. It has been shown that Pb(II) and Cd(II)... [to full text]
|
Page generated in 0.0509 seconds