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Charakterisierung des Relaxationsverhaltens von Si1-xGex/Si(001)-Schichten mittels RöntgentopographiePfeiffer, Jens-Uwe. January 2001 (has links) (PDF)
Berlin, Humboldt-Univ., Diss., 2001. / Computerdatei im Fernzugriff.
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Charakterisierung des Relaxationsverhaltens von Si1-xGex/Si(001)-Schichten mittels RöntgentopographiePfeiffer, Jens-Uwe. January 2001 (has links) (PDF)
Berlin, Humboldt-Univ., Diss., 2001. / Computerdatei im Fernzugriff.
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Charakterisierung des Relaxationsverhaltens von Si1-xGex/Si(001)-Schichten mittels RöntgentopographiePfeiffer, Jens-Uwe. January 2001 (has links) (PDF)
Berlin, Humboldt-Universiẗat, Diss., 2001.
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