[pt] Filmes de carbono amorfo hidrogenados, (a - C: H) e
nitrogenados,) ( a - C: H(N) - depositados pela técnica
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) em
atmosferas de metano e metano-nitrogênio foram
submetidos a tratamento em plasmas de N2. A influência de
vários parâmetros foi investigada: a pressão da câmara,
tensão de autopolarização e tempo de exposição.
A taxa de erosão determinada por perfilometria. A taxa
aumenta com a tensão e tende a saturar-se para altas
pressões. A incorporação de nitrogênio foi medida
por reação nuclear. O resultado indica um decréscimo no
conteúdo de N com o aumento da tensão de autopolarização e
pode ser explicado pelo aumento da erosão química e física.
As ligações químicas foram analisadas por XPS e dois
ambiente podem ser identificados: um com átomos de N
rodeado por átomos de C e o outro com átomos N ligado ao H.
A modificação da rugosidade da superfície e coeficiente de
atrito foi caracterizada por Microscopia de Força
Atômica (AFM). A rugosidade da superfície é independente do
valores de autopolarização, quando o coeficiente de atrito
decresce com o aumento da tensão de autopolarização. / [en] Amorphous Hydrogenated carbon films (a - C: H) and
nitrogenated films ) (a - C: H(N) - deposited by plasma
enhanced chemical vapor deposition in 4 CH and CH4-N2
atmospheres were submitted to nitrogen r.f.- plasma
treatment. The influence of several parameters was
investigated: the chamber pressure, the self-bias voltage
and the exposure time. The erosion rate was determined by
profilometry. It increases as the self-bias increases and
tends to saturate for higher pressures. The nitrogen
incorporated in the films was measured by nuclear reation
analysis. The results indicate a decrease in the
N content a the self-bias increase that can be atributted
toen increase of the sputtering yield. The chemical bonds
were probed by XPS and two chemical environments can be
identified, one with N atoms surrounded by C atoms and the
other one with N atoms binding to H. Surface roughness and
friction coefficient modifications were followed by atomic
force and lateral force microscopies. The surface roughness
is independent on the value of the self-bias voltage, while
the friction coefficient slightly decreases.
| Identifer | oai:union.ndltd.org:puc-rio.br/oai:MAXWELL.puc-rio.br:3884 |
| Date | 09 September 2003 |
| Creators | VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA |
| Contributors | FERNANDO LAZARO FREIRE JUNIOR |
| Publisher | MAXWELL |
| Source Sets | PUC Rio |
| Language | Portuguese |
| Detected Language | English |
| Type | TEXTO |
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