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溶融塩電気化学プロセスによる緻密質炭素膜の形成 / ヨウユウエン デンキ カガク プロセス ニヨル チミツシツ タンソマク ノ ケイセイ

本研究では比較的安価な設備を用い、低温で量産性のある炭素膜を得ることが出来る溶融塩電気化学プロセスに着目し、電解条件が炭素膜に及ぼす影響、浴温が炭素膜に及ぼす影響、基材前処理における酸活性が炭素膜と基材の密着性に及ぼす影響等を明らかにしたものである。 / 博士(工学) / Doctor of Philosophy in Engineering / 同志社大学 / Doshisha University

Identiferoai:union.ndltd.org:doshisha.ac.jp/oai:doshisha.repo.nii.ac.jp:00001160
Date22 March 2014
Creators湯川 晃宏, Akihiro Yukawa
Source SetsDoshisha University
LanguageJapanese
Detected LanguageJapanese
TypeThesis or Dissertation
Formatapplication/pdf
Sourcehttps://doors.doshisha.ac.jp/opac/opac_link/bibid/BB12905947/?lang=0

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