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Modellierung eines Plasmaätzverfahrens am Beispiel der Ätzung einer Siliziumoberfläche durch ein Chlor-Argon-Plasma

Universiẗat, Diss., 2003--Stuttgart.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/176854198
CreatorsNold, Michael.
Source SetsOCLC
LanguageGerman
Detected LanguageGerman
TypeOnline-Publikation.

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