Aufbau und Charakterisierung einer Undulatorbeamline bei BESSY II für EUV-Photoemissionsmikroskopie an organischen Nanoschichten und Nanoinseln auf Silizium

Description

Bielefeld, Universiẗat, Diss., 2002.

Links & Downloads

1. http://archiv.ub.uni-bielefeld.de/disshabi/2002/0108.pdf
2. http://deposit.ddb.de/cgi-bin/dokserv?idn=966611020

Tags

BESSY II Silicium

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/76423718
Date	January 2002
Creators	Pohl, Martin.
Publisher	[S.l. : s.n.],
Source Sets	OCLC
Language	German
Detected Language	German