Implementação de um sistema LPCVD vertical para obtenção de filmes finos de silicio policristalino

Description

Orientador : Ioshiaki Doi / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica / Made available in DSpace on 2018-07-28T11:13:54Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 2001 / Mestrado

Links & Downloads

1. (Broch.)
2. TEIXEIRA, Ricardo Cotrin. Implementação de um sistema LPCVD vertical para obtenção de filmes finos de silicio policristalino. 2001. 85p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/260110>. Acesso em: 28 jul. 2018.
3. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260110

Tags

Filmes finos

Silício

Deposição química de vapor

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:IBICT/oai:repositorio.unicamp.br:REPOSIP/260110
Date	28 July 2018
Creators	Teixeira, Ricardo Cotrin
Contributors	UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS, Doi, Ioshiaki, 1944-
Publisher	[s.n.], Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia Eletrica
Source Sets	IBICT Brazilian ETDs
Language	Portuguese
Detected Language	Portuguese
Type	info:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis
Format	85p. : il., application/pdf
Source	reponame:Repositório Institucional da Unicamp, instname:Universidade Estadual de Campinas, instacron:UNICAMP
Rights	info:eu-repo/semantics/openAccess