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ECR-Plasmadiagnostik im System Ar-H 2 -N 2 -TMS und Charakterisierung der entstehenden SiC x N y :H-Schichten

Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2002.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/314240438
Date January 2001
CreatorsDani, Ines,
Publisher[S.l. : s.n.],
Source SetsOCLC
LanguageGerman
Detected LanguageGerman
TypeOnline-Publikation.

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