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Konzepte zur lithographieunabhängigen Skalierung von vertikalen Kurzkanal-MOS-Feldeffekt-Transistoren und deren Bewertung

Bochum, Univ., Diss., 2001. / URN: urn:nbn:de:hbz:294-4177.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/314322897
Date January 2001
CreatorsSchulz, Thomas.
Publisher[S.l. : s.n.],
Source SetsOCLC
LanguageGerman
Detected LanguageGerman

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