Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior / A espectroscopia de fotoelétrons excitados por radiação ultravioleta (UPS Ultraviolet
Photoelectron Spectroscopy) é uma técnica de análise tipicamente de superfícies, particularmente
relevante para estudos onde se deseja obter informações sobre os níveis de valência de átomos
situados na superfície de um material. Esta técnica tem importantes aplicações em áreas em que
reações de superfícies são fundamentais, como, por exemplo, estudos de corrosão, oxidação e de
catálise. Neste trabalho, descreve-se a implantação de UPS no Laboratório de Física Aplicada do
Centro de Desenvolvimento da Tecnologia Nuclear LFA/CDTN. Para a produção de fótons na
região do ultravioleta é utilizada uma lâmpada de He, que emite fótons com energias de 40,8 e
21,2 eV. Essa instrumentação, construída em nosso laboratório, foi instalada em uma câmara de
ultra-alto vácuo (UHV) e testada em medidas da banda de valência de monocristais. Para
comprovar a funcionalidade da técnica, testes foram conduzidos em monocristais de Cu (100),
Cu90Au10 (100) e Cu3Au (100), sendo que os resultados aqui apresentados, mostram o bom
desempenho da instrumentação desenvolvida. A oxidação in-situ, em UHV, de filmes finos de Ni
foi também investigada por XPS (XRay Photoelectron Spectroscopy), na tentativa de se observar
a influência da pressão parcial de oxigênio e da temperatura na preparação de bicamadas Ni/NiO
por oxidação in-situ. Nossos resultados mostram que para exposição do Ni a 103 L de O2 a
temperaturas de até 523 K ocorre a formação de no máximo 10 Å de óxidos de níquel. / The Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy (UPS) is an important surface analysis technique
used in surface valence band studies. This technique has been applied to fundamental research on
areas like corrosion, oxidation, and catalysis. In this work, a He lamp for UPS was constructed,
installed and tested in the Laboratório de Física Aplicada at Centro de Desenvolvimento da
Tecnologia Nuclear LFA/CDTN. The Helium discharge lamp has photon emission of 40,8 eV
and 21,2 eV energy. The instrumentation built in our laboratory was installed in an Ultra High
Vacuum (UHV) chamber and the obtained UPS results confirm the good perfomace of the
instrument. The surface analysis tests were carried out on Cu (100), Cu90Au10 (100) and Cu3Au
(100) surfaces. Furthermore, the preparation of NiO/Ni bilayer by in-situ oxidation of nickel
films was also investigated by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS). The influence of
oxygen partial pressure and the temperature changes in the growth of NiO during the in-situ
oxidation of Ni were studied. For Ni exposure to 103 L O2 from room temperature up to 523 K,
we observe the formation of, at most, 10 Å Ni oxides.
| Identifer | oai:union.ndltd.org:IBICT/oai:bdtd.cdtn.br:165 |
| Date | 26 August 2005 |
| Creators | Renato de Mendonça |
| Contributors | Waldemar Augusto de Almeida Macedo, Maximiliano Delany Martins, José Domingos Ardisson, Wagner Nunes Rodrigues |
| Publisher | CNEN - Centro de Desenvolvimento da Tecnologia Nuclear, Belo Horizonte, CTMA - Programa de Pós-Graduação em Ciência e Tecnologia das Radiações, Minerais e Materiais, CDTN, BR |
| Source Sets | IBICT Brazilian ETDs |
| Language | Portuguese |
| Detected Language | Portuguese |
| Type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis |
| Format | application/pdf |
| Source | reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações do CDTN, instname:Centro de Desenvolvimento da Tecnologia Nuclear, instacron:CDTN |
| Rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
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