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Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching

Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2008.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/644674965
Date January 2008
CreatorsZhang, Yan
Source SetsOCLC
LanguageEnglish
Detected LanguageGerman
Sourcekostenfrei

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