Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching

Description

Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2008.

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1. http://www.opus.ub.uni-erlangen.de/opus/volltexte/2008/980/
2. http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805
3. http://d-nb.info/991329406/34

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Identifer	oai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/644674965
Date	January 2008
Creators	Zhang, Yan
Source Sets	OCLC
Language	English
Detected Language	German
Source	kostenfrei