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Lithographieunabhängige nanoskalige MOS-Technologie auf Bulk-Silizium

Zugl.: Dortmund, Techn. Univ., Diss., 2009

  1. http://d-nb.info/1002867193/04
Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/646134465
Date January 1900
CreatorsKallis, Klaus
PublisherMünster Theophano-Verl.
Source SetsOCLC
LanguageGerman
Detected LanguageGerman

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