è estuda a cinética de oxidação de filmes finos de cobre e os mecanismos envolvidos em sua passivação através de; implamtação iônica, formação de ligas e utilização de uma camada protetora. / Oxidation kinetics and its mechanisms has been studied for thin Copper films deposited by PVD on glossy carbon (UDAC) and Si wafers.
| Identifer | oai:union.ndltd.org:usp.br/oai:teses.usp.br:tde-01092008-154507 |
| Date | 16 May 2008 |
| Creators | Attie, Marcia Regina Pereira |
| Contributors | Tabacniks, Manfredo Harri |
| Publisher | Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP |
| Source Sets | Universidade de São Paulo |
| Language | Portuguese |
| Detected Language | Portuguese |
| Type | Tese de Doutorado |
| Format | application/pdf |
| Rights | Liberar o conteúdo para acesso público. |
Page generated in 0.0024 seconds