è estuda a cinética de oxidação de filmes finos de cobre e os mecanismos envolvidos em sua passivação através de; implamtação iônica, formação de ligas e utilização de uma camada protetora. / Oxidation kinetics and its mechanisms has been studied for thin Copper films deposited by PVD on glossy carbon (UDAC) and Si wafers.
| Identifer | oai:union.ndltd.org:IBICT/oai:teses.usp.br:tde-01092008-154507 |
| Date | 16 May 2008 |
| Creators | Marcia Regina Pereira Attie |
| Contributors | Manfredo Harri Tabacniks, Marcelo Nelson Paez Carreño, Jose Fernando Diniz Chubaci, Helena Maria Petrilli, Elidiane Cipriano Rangel |
| Publisher | Universidade de São Paulo, Física, USP, BR |
| Source Sets | IBICT Brazilian ETDs |
| Language | Portuguese |
| Detected Language | Portuguese |
| Type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/doctoralThesis |
| Source | reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP, instname:Universidade de São Paulo, instacron:USP |
| Rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
Page generated in 0.0018 seconds