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Fabrication of MoO₂ and VO₂ Thin Films Using Mist Chemical Vapor Deposition / MoO₂およびVO₂薄膜のミスト化学気相成長法による作製

京都大学 / 新制・課程博士 / 博士(エネルギー科学) / 甲第24011号 / エネ博第447号 / 新制||エネ||84(附属図書館) / 京都大学大学院エネルギー科学研究科エネルギー応用科学専攻 / (主査)教授 平藤 哲司, 教授 土井 俊哉, 教授 藤本 仁 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Energy Science / Kyoto University / DFAM

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/275333
Date23 March 2022
CreatorsMatamura, Yuya
Contributors股村, 雄也, マタムラ, ユウヤ
PublisherKyoto University, 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
Typedoctoral thesis, Thesis or Dissertation
Rights許諾条件により本文は2022-06-07に公開

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