Le secteur des semi-conducteurs a connu un développement considérable ces dernières décennies, du fait des nouvelles applications de la microélectronique dans l'industrie. Le processus de fabrication est réputé pour sa complexité. L'un des ateliers les plus critiques de la production, l'atelier de photolithographie, est régi par un ensemble conséquent de contraintes de production. La multiplicité des ressources utilisées, le nombre important de produits traités, en font une zone importante à optimiser. Les objectifs de la thèse ont été de modéliser cet atelier sous la forme d'un problème d'ordonnancement sur machines parallèles et d'optimiser plusieurs critères jugés pertinents pour évaluer la qualité des solutions. Des résultats en termes de complexité, et d'algorithmes de résolution, ont permis une application industrielle, dans la mesure où un logiciel d'optimisation destiné à l'ordonnancement des lots en photolithographie a été développé. / Semiconductor manufacturing has grown considerably in recent decades, due to new industrial applications of microelectronic devices. The related manufacturing process is known to be complex. A bottleneck process step, the photolithography workshop, gathers various types of constraints, related to the number of auxiliary resources and the tools characteristics. The aims of the thesis were to model this workstation as a parallel machine scheduling problem and to optimize various criteria, determined by industrial needs. Some complexity results are provided and optimization algorithms led to an industrial application, i.e. a software providing optimized schedules in a specific fab.
| Identifer | oai:union.ndltd.org:theses.fr/2015EMSE0808 |
| Date | 11 December 2015 |
| Creators | Bitar, Abdoul |
| Contributors | Saint-Etienne, EMSE, Dauzère-Pérès, Stéphane, Yugma, Galliam Claude |
| Source Sets | Dépôt national des thèses électroniques françaises |
| Language | French |
| Detected Language | French |
| Type | Electronic Thesis or Dissertation, Text |
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