Return to search

Membranes a-SiCxNy:H déposées par CVD-plasma. Tamis moléculaire pour la perméation de l'hélium

non disponible

Identiferoai:union.ndltd.org:CCSD/oai:tel.archives-ouvertes.fr:tel-00466225
Date12 June 2009
CreatorsKafrouni, Wassim
Source SetsCCSD theses-EN-ligne, France
LanguageFrench
Detected LanguageFrench
TypePhD thesis

Page generated in 0.002 seconds