Return to search

Vorhersage von Prozess- und Schichtcharakteristiken beim atmosphärischen Plasmaspritzen mittels statistischer Modelle und neuronaler Netze /

Techn. Hochsch., Diss., 2005--Aachen.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/179813066
Date January 2005
CreatorsSeemann, Klaus.
PublisherAachen : Mainz,
Source SetsOCLC
LanguageGerman
Detected LanguageGerman

Page generated in 0.0018 seconds