Structural investigation of silicon after ion-implantation using combined x-ray scattering methods

Description

Reproduction de : Thèse de doctorat : Physique des matériaux : Lyon 1 : 2005. Reproduction de : Thèse de doctorat : Physique des matériaux : Université de Turin : 2005. / Thèse soutenue en co-tutelle. Thèse en anglais. Titre provenant de l'écran titre. 129 réf. bibliogr.

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1. http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/04/82/71/PDF/tel-00009791.pdf

Tags

Rayonnement synchrotron Rayons X Ions

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/495244480
Date	January 2005
Creators	Capello, Luciana Canut, Bruno Lamberti, Carlo.
Publisher	Villeurbanne : Université Claude Bernard],
Source Sets	OCLC
Language	English
Detected Language	French