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Métrologie des dimensions critiques : scatterométrie et développements avancés / Metrology of critical dimension : scatterometry and advanced developments

L’industrie des nanotechnologies est un monde en constante évolution. Les améliorations dans les techniques de fabrication permettent de définir des composants de plus en plus petits. Afin de vérifier les dimensions fabriquées, la métrologie doit s’adapter et être capable de fournir des analyses basées sur des mesures optiques fiables et répétables. Ces travaux se focalisent dans un premier temps sur les procédés de fabrication des échantillons. Les techniques de dépôts, de photolithographies et de gravure sont présentées. Ces techniques nécessitent des outils de métrologie adaptés permettant un contrôle en ligne. Les équipements de métrologie disponibles sont donc présentés en se focalisant sur les techniques par imagerie comme la microscopie électronique à balayage ou transmission et les techniques par inversion telle que l’ellipsométrie et la scatterometrie. Le troisième chapitre est dédié aux applications de ces techniques en production. Les empilements étudiés sont généralement constitués de couches innovantes. La dernière partie est axée sur des méthodes de caractérisation de la rugosité par diffusion lumineuse sur des réseaux périodiques. / Nanotechnology industry is a world in constant evolution. Improvements in manufacturing techniques are used to define smaller and smaller components. To verify dimensions, metrology has to be improved to be able to provide reliable and repeatable analysis. This work focuses first on manufacturing process samples. Deposition techniques, photolithography and etching are introduced. These techniques require metrology tools adapted for in-line monitoring. Metrology equipments introduced in this thesis highlight the application of imaging techniques such as scanning electron microscopy or transmission and inversion techniques such as ellipsometry and scatterometry. The third chapter is dedicated to the application of these techniques to monitoring production. Thin films inspected are generally innovative layers. The last part is focused on methods for roughness characterization by light scattering on periodic gratings.

Identiferoai:union.ndltd.org:theses.fr/2013AIXM4345
Date19 December 2013
CreatorsVauselle, Alexandre
ContributorsAix-Marseille, Deumié-Raviol, Carole, Georges, Gaëlle
Source SetsDépôt national des thèses électroniques françaises
LanguageFrench
Detected LanguageFrench
TypeElectronic Thesis or Dissertation, Text

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