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Estudo da Eletrodeposição de Índio Sobre a Superfície de Cobre em Meio de Cloreto de Colina e Etilenoglicol / Study of Indium Electrodeposition on Copper Surface From Choline Chloride/Ethylene Glycol Eutectic Mixture

ALCANFOR, Ana Aline Coelho. Estudo da Eletrodeposição de Índio Sobre a Superfície de Cobre em Meio de Cloreto de Colina e Etilenoglicol. 2017. 44 f. Dissertação (Mestrado em Química)-Universidade Federal do Ceará, Fortaleza, 2017. / Submitted by Anderson Silva Pereira (anderson.pereiraaa@gmail.com) on 2017-07-13T18:39:26Z
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Previous issue date: 2017 / The electrodeposition of In on Cu substrate was investigated using 0.05 mol L–1 InCl3 dissolved in a mixture of choline chloride (ChCl) and ethylene glycol (EG), in molar ratio of 1:2 (1ChCl:2EG DES + InCl3 0,05 mol L–1), at temperatures of 25, 45, 65 e 80 °C. Analysis of the current-time curves using the Scharifker-Hills model indicated that the In deposition on Cu electrode occurred by the mechanism of progressive nucleation. Morphological examination showed that from 25 to 65 °C electrodeposited consisted of In grains and rods. The elevation of the temperature to 80 °C favors the formation of In rods. XRD results revealed the presence of the crystalline phase of CuIn and the phase of In with preferential orientated in the (101) planes. / A eletrodeposição de índio sobre substrato de cobre foi investigada usando 0,05 mol L–1 de InCl3 dissolvido em uma mistura de cloreto de colina (ChCl) e etilenoglicol (EG), numa razão molar de 1:2 (1ChCl:2EG DES + InCl3 0,05 mol L–1), nas temperaturas de 25, 45, 65 e 80 °C. A análise das curvas de corrente-tempo, aplicando o modelo de Scharifker-Hills indicou que a eletrodeposição de índio sobre cobre ocorre por um mecanismo de nucleação progressiva. A análise morfológica demonstrou que de 25 a 65 °C os eletrodepósitos consistiam em grãos e barras de índio. A elevação da temperatura para 80 ºC favorece a formação de barras de índio. Os resultados de DRX revelaram a presença da fase cristalina de CuIn e da fase de In com crescimento preferencial no plano (101).

Identiferoai:union.ndltd.org:IBICT/oai:www.repositorio.ufc.br:riufc/23953
Date January 2017
CreatorsAlcanfor, Ana Aline Coelho
ContributorsCorreia, Adriana Nunes, Lima Neto, Pedro de
Source SetsIBICT Brazilian ETDs
LanguagePortuguese
Detected LanguagePortuguese
Typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis
Sourcereponame:Repositório Institucional da UFC, instname:Universidade Federal do Ceará, instacron:UFC
Rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess

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