Etude de nouvelles voies de passivation non polymérisante pour la gravure profonde du silicium

Description

Thèse de doctorat : Physique des plasmas : Orléans : 2009. / Titre provenant de l'écran-titre.

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1. ftp://ftp.univ-orleans.fr/theses/corinne.duluard_1712.pdf

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Identifer	oai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/495282380
Date	January 2009
Creators	Duluard, Corinne Ranson, Pierre.
Publisher	S. l. : S. n.,
Source Sets	OCLC
Language	French
Detected Language	French