Este trabalho consiste no estudo da neutralização de centros associados a níveis profundos em silício, através da introdução de hidrogênio atômico no sistema. Foi utilizado o modelo de aglomerado molecular com saturação dos orbitais de superfície pela esfera de Watson dentro do formalismo do método do Espalhamento Múltiplo-X. Estudamos inicialmente as impurezas isoladas substitucionais: Si:l=lu, Si:l=lg e Si:Cu, com intuito de observarmos os efeitos causados pela introdução dos hidrogênios atômicos. Os complexos estudados envolvem quatro átomos de hidrogênio situados nos primeiros interstícios tetraédricos ao centro CSi:l=luH,, Si:l=lgH, e Si:CuH,) . Para investigar a passivação, fizemos cálculos auto consistentes para várias configurações atômicas. Em cada configuração os 4 átomos de hidrogênio foram deslocados simetricamente em torno da impureza substitucional. Para cada nova configuração, os sistemas foram também estudados nos estados de carga negativo e positivo, que representamos por CSi:XH,)- e CSi:XH,)o. O modelo microscópico proposto mostrou-se apropriado para explicar os mecanismos da neutralização de defeitos profundos em semicondutores. / In this work we study the neutralization of deep level impurities in silicon by introducing atomic hydrogen in the system. The calculations were carried out by using the Mulliple Scattering-X~ theory within the framework of lhe Watson-sphere-terminated molecular cluster model. We studied lhe substitutional isolated impurities: Si:l=lu, effects of the Si:l=lg and Si:Cu in order to investigate the incorporation of atomic hydrogen. The clusters comprise 16 silicon aloms at the regular lattice sites and 4 hydrogen atoms, at the tet rahedral interstitial sites which surrounds the impurity placed al cluster (5i:l=luH4 , Si:l=lgH4 and Si:CuH4 ). In order to investigate carry out self-consistent calculations configurations. In each configuration the center o f t h e the passivation we for various atomic the f ou r hydrogen atoms were displaced symmetrically CTd) around the substitutional impurities. The systems positive charge states. were analysed This microscopic mo de l was in negative and suitable in explaining the neutralization mechanism of deep Level induced by a substitutional impurities in semiconductors.
| Identifer | oai:union.ndltd.org:usp.br/oai:teses.usp.br:tde-13032017-141121 |
| Date | 29 August 1989 |
| Creators | Angelo, Joseanne Gomes |
| Contributors | Assali, Lucy Vitoria Credidio |
| Publisher | Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP |
| Source Sets | Universidade de São Paulo |
| Language | Portuguese |
| Detected Language | English |
| Type | Dissertação de Mestrado |
| Format | application/pdf |
| Rights | Liberar o conteúdo para acesso público. |
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