Wasserstoff-induzierte Silizium-Schichtabtrennung durch Implantations- und Plasmaprozesse für die Herstellung von SOI-Substraten

Description

Zugl.: Hagen, Fernuniv., Diss., 2007

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1. http://deposit.d-nb.de/cgi-bin/dokserv?id=3060205&prov=M&dok_var=1&dok_ext=htm

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Identifer	oai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/213395908
Date	January 2007
Creators	Düngen, Wolfgang
Publisher	Berlin Logos-Verl.
Source Sets	OCLC
Language	German
Detected Language	German