溶融塩電気化学プロセスによる緻密質炭素膜の形成 / ヨウユウエン デンキ カガク プロセス ニヨル チミツシツ タンソマク ノ ケイセイ

Description

本研究では比較的安価な設備を用い、低温で量産性のある炭素膜を得ることが出来る溶融塩電気化学プロセスに着目し、電解条件が炭素膜に及ぼす影響、浴温が炭素膜に及ぼす影響、基材前処理における酸活性が炭素膜と基材の密着性に及ぼす影響等を明らかにしたものである。 / 博士(工学) / Doctor of Philosophy in Engineering / 同志社大学 / Doshisha University

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1. https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_uri&item_id=1160
2. http://id.nii.ac.jp/1707/00001152/
3. 生命医科学研究科
4. Graduate School of Life and Medical Sciences
5. https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=1160&item_no=1&attribute_id=21&file_no=1
6. https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=1160&item_no=1&attribute_id=21&file_no=2
7. 34310甲第672号

Tags

金属溶融塩

炭素膜

PR電解

陰極還元

metal molten salt

carbon film

PR electrolysis

cathodic reduction

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:doshisha.ac.jp/oai:doshisha.repo.nii.ac.jp:00001160
Date	22 March 2014
Creators	湯川 晃宏, Akihiro Yukawa
Source Sets	Doshisha University
Language	Japanese
Detected Language	Japanese
Type	Thesis or Dissertation
Format	application/pdf
Source	https://doors.doshisha.ac.jp/opac/opac_link/bibid/BB12905947/?lang=0