Contribution à la compréhension de l'épitaxie du diamant élaboré par MPCVD assisté par polarisation sur silicium étude de la réactivité du substrat et influence des étapes de prétraitement sur le dépôt /

Description

Thèse de doctorat : Science et ingénierie des matériaux : INPL : 2008. / Titre provenant de l'écran-titre.

Links & Downloads

1. http://www.scd.inpl-nancy.fr/theses/2008_GUISE_A.pdf

Tags

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/495298304
Date	January 2008
Creators	Guise, Aurore Barrat, Silvère
Publisher	S. l. : S. n.,
Source Sets	OCLC
Language	French
Detected Language	French