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Herstellung, Charakterisierung und Bewertung leitfähiger Diffusionsbarrieren auf Basis von Tantal, Titan und Wolfram für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen

Zugl.: Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2003

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/188119244
Date January 2003
CreatorsBaumann, Jens
PublisherAachen Shaker
Source SetsOCLC
LanguageUndetermined
Detected LanguageGerman
Sourcekostenfrei

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