Return to search

A virtual reactor for simulation of plasma enhanced chemical vapor deposition

Proefschrift Universiteit van Amsterdam. / Met lit.opg. en samenvatting in het Nederlands.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/256599225
Date January 1900
CreatorsKrzhizhanovskaya, Valeria Vladimirovna,
Publisher[S.l. : Amsterdam : s.n.] ; Universiteit van Amsterdam [Host],
Source SetsOCLC
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
TypeProefschriften (vorm)

Page generated in 0.0015 seconds