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Der epitaktische Lift-off als Methode, elektrische- und optische Eigenschaften in III-V-Halbleiter-Strukturen zu beeinflussen

Universiẗat, Diss., 2002--München.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/614930615
CreatorsBöhm, Stefan.
Source SetsOCLC
LanguageGerman
Detected LanguageGerman
TypeOnline-Publikation.

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