Fabrication of MoO₂ and VO₂ Thin Films Using Mist Chemical Vapor Deposition / MoO₂およびVO₂薄膜のミスト化学気相成長法による作製

Description

京都大学 / 新制・課程博士 / 博士(エネルギー科学) / 甲第24011号 / エネ博第447号 / 新制||エネ||84(附属図書館) / 京都大学大学院エネルギー科学研究科エネルギー応用科学専攻 / (主査)教授 平藤 哲司, 教授 土井 俊哉, 教授 藤本 仁 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Energy Science / Kyoto University / DFAM

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1. http://hdl.handle.net/2433/275333
2. 10.14989/doctor.k24011
3. 14301

Tags

Thin films

Molybdenum dioxide

Vanadium dioxide

Chemical vapor deposition

Mist CVD

501

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/275333
Date	23 March 2022
Creators	Matamura, Yuya
Contributors	股村, 雄也, マタムラ, ユウヤ
Publisher	Kyoto University, 京都大学
Source Sets	Kyoto University
Language	English
Detected Language	English
Type	doctoral thesis, Thesis or Dissertation
Rights	許諾条件により本文は2022-06-07に公開