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Entwicklung eines hochpräzisen Justagesystems für die UV-Nanoimprint-Lithographie /

Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2006.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/180958350
Date January 2006
CreatorsFuchs, Andreas.
PublisherAachen : Shaker,
Source SetsOCLC
LanguageUndetermined
Detected LanguageGerman

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