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Estudio de las propiedades optoelectrónicas en multicapas de óxidos de grafeno (MOG) y multicapas óxidos de grafeno reducidos (MOGR)

En estas hojuelas fue utilizada la técnica química modificada de Hummer- Offmman para
la obtención de óxidos de grafito OG. A partir de estas matrices utilizamos la exfoliación
micro mecánica para obtener multicapas de óxido de grafeno (MOG) las cuales son
depositadas sobre substratos de Si/SiO2. Posteriormente fue construido un dispositivo para
inducir variaciones controladas de la temperatura sobre la muestra para reducir las
multicapas de óxidos de grafeno (MGOR) y de esta forma hacer un estudio sistemático de
los espectros Raman para cada temperatura estudiada y así, evaluar la influencia de estas
temperaturas en el material oxidado y exfoliado.
Usamos la espectroscopia Raman para estudiar las propiedades optoelectrónicas en estos
sistemas, como, la distancia entre los defectos y el ancho de banda, permitiendo así evaluar
la calidad y propiedades del óxido de grafito. De esta forma, estudiamos la influencia del
proceso de oxidación y la reducción térmica sobre estos parámetros en las multicapas de
grafenos. Finalmente, estudiaremos la influencia de la potencia del láser del espectrómetro
Raman, sobre las propiedades optoelectrónicas de forma sistemática en estos sistemas,
utilizando un láser semiconductor bombeado ópticamente (OPSL), de longitud de onda
igual a 532nm.

Identiferoai:union.ndltd.org:PUCP/oai:tesis.pucp.edu.pe:20.500.12404/14380
Date11 June 2019
CreatorsPérez Carreño, Adela Aurora
ContributorsLópez Herrera, María Elena
PublisherPontificia Universidad Católica del Perú, PE
Source SetsPontificia Universidad Católica del Perú
LanguageSpanish
Detected LanguageSpanish
Typeinfo:eu-repo/semantics/masterThesis
Formatapplication/pdf
RightsAtribución 2.5 Perú, info:eu-repo/semantics/openAccess, http://creativecommons.org/licenses/by/2.5/pe/

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