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Caracterização e otimização dos processos de fotolitografia aplicados na fabricação de dispositivos micrometricos MOS e microssistemas / MOS devices and MEMS photolithographic fabrication processes characterization and optimization

Orientadores: Peter Jurgen Tatsch, Stanislav Moshkalyov / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação / Made available in DSpace on 2018-08-06T08:35:07Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 2004 / Resumo: O principal objetivo deste trabalho é o aperfeiçoamento dos processos de fotolitografia utilizados no Centro de Componentes Semicondutores (CCS) da Universidade Estadual de Campinas ¿ UNICAMP. Visa determinar os parâmetros de maior relevância do processo de fotolitografia utilizado no CCS para fabricação de estruturas micrométricas e a partir da sua caracterização identificar os seus valores ótimos. Os parâmetros tais como o contraste, a aderência, a resolução e a dimensão mínima dos padrões fotogravados foram estudados a fim de se determinar as possibilidades de melhoria e as limitações dos processos. No decorrer deste trabalho foi utilizado basicamente o fotorresiste AZ 5214E com o qual foi possível o desenvolvimento de processos repetitivos que permitiram a fabricação de estruturas periódicas com largura de até 2µm e estruturas isoladas com largura de até 0,8µm / Abstract: The aim of this work is to improve the photolithographic processes of the CCS/Unicamp. This work attempts findout and optimize the most significant process parameters for the fabrication of micrometric structures. Contrast, adhesion, resolution, and minimum dimension for the shapes were studied in order to improve the process and also determine their limitations. A procedure for the processing of AZ 5214E photoresist was established so that periodic structures with dimension as low as 2 µm and isolated structures down to 0,8 µm can be produced reproductively / Mestrado / Microeletronica / Mestre em Engenharia Elétrica

Identiferoai:union.ndltd.org:IBICT/oai:repositorio.unicamp.br:REPOSIP/261835
Date20 October 2004
CreatorsFioravante Junior, Nemer Paschoal
ContributorsUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS, Moshkalev, Stanislav, 1952-, Tatsch, Peter Jürgen, 1949-, Seabra, Antonio Carlos, Diniz, José Alexandre, Zakia, Maria Beny Pinto
Publisher[s.n.], Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação
Source SetsIBICT Brazilian ETDs
LanguagePortuguese
Detected LanguagePortuguese
Typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis
Format94p. : il., application/pdf
Sourcereponame:Repositório Institucional da Unicamp, instname:Universidade Estadual de Campinas, instacron:UNICAMP
Rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess

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