Par évaporation sous vide avec un laser pulse, on se propose de fabriquer des couches minces de matériaux varies et des multicouches utilisables pour la réalisation de miroirs a rayons x-uv; les paramètres pour la réflectivité des empilements que nous essayons d'améliorer sont: la pureté, l'homogénéité d'épaisseur, la compacité et la planéité des interfaces des différentes couches obtenues. Nous avons mis en place un dispositif qui utilise un laser nd-yag pulse ayant une densité de puissance au niveau de la cible supérieure a 100 millions de watts par centimètre carre. Un déplacement dans deux directions orthogonales assure un balayage uniforme du faisceau de la cible. L'épaisseur des couches est contrôlée pendant le dépôt par une microbalance a quartz. L'ensemble est gèré par un micro-ordinateur permettant le pilotage automatique de la fabrication de couches simples et multicouches. Pour la plupart des matériaux étudiés, les couches minces fabriquées ont une densité du matériau massif. La rugosité aux interfaces (c sur w par exemple) est souvent meilleure que celle obtenue dans le cas d'une évaporation thermique classique. Il reste a résoudre les problèmes d'homogeneite d'épaisseur que nous avons mis en évidence. Les projections de gouttelettes de matériau durant l'évaporation posent un problème, particulièrement aigu dans le cas du silicium, ou la surface des couches présente des aspérités sous forme de gouttelettes solidifiées .
| Identifer | oai:union.ndltd.org:CCSD/oai:pastel.archives-ouvertes.fr:pastel-00714192 |
| Date | 11 July 1990 |
| Creators | Macquart, Philippee |
| Publisher | Université Paris Sud - Paris XI |
| Source Sets | CCSD theses-EN-ligne, France |
| Language | French |
| Detected Language | French |
| Type | PhD thesis |
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