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Einfluss der Oxidqualität auf die Stabilität von Halbleiterdetektoren bei Röntgenbestrahlung

München, Techn. Universiẗat, Diss., 2004.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/76484554
Date January 2004
CreatorsPahlke, Andreas.
Publisher[S.l. : s.n.],
Source SetsOCLC
LanguageGerman
Detected LanguageGerman
SourceLF

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