Return to search

Plazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2 / Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures

Tato studie je zaměřena na základní výzkum přípravy a-SiC:H a a-SiCO:H slitin plazmových polymerů pomocí metody plazmochemické depozice z plynné fáze (PE-CVD). Tyto slitiny byly připravovány depozicí z monomeru tetravinylsilanu (TVS) a jeho směsí s kyslíkem a argonem při různých efektivních výkonech pulzního plazmatu. Připravené tenké vrstvy byly za účelem získání závislostí optických, mechanických a chemických vlastností na depozičních podmínkách zkoumány pomocí metod spektros-kopické elipsometrie (ELL), nanoindentace (NI), fotoelektronové spektrometrie (XPS) a Fourierovy transformované infračervené spektrometrie

Identiferoai:union.ndltd.org:nusl.cz/oai:invenio.nusl.cz:216936
Date January 2013
CreatorsSadílek, Jakub
ContributorsSalyk, Ota, Čech, Vladimír
PublisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Source SetsCzech ETDs
LanguageEnglish
Detected LanguageUnknown
Typeinfo:eu-repo/semantics/masterThesis
Rightsinfo:eu-repo/semantics/restrictedAccess

Page generated in 0.0026 seconds