Determinação de regras de projeto e de parametros de simulação de um processo nMOS para fabricação de circuitos integrados

Description

Orientador: Peter Jurgen Tatsch / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação / Made available in DSpace on 2018-08-03T21:34:36Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 2002 / Mestrado

Links & Downloads

1. (Broch.)
2. MANERA, Leandro Tiago. Determinação de regras de projeto e de parametros de simulação de um processo nMOS para fabricação de circuitos integrados. 2002. 112f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/259706>. Acesso em: 3 ago. 2018.
3. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259706

Tags

Transistores de efeito de campo

SPICE (Programa de computador)

Silício

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:IBICT/oai:repositorio.unicamp.br:REPOSIP/259706
Date	03 August 2018
Creators	Manera, Leandro Tiago, 1977-
Contributors	UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS, Tatsch, Peter Jürgen, 1949-
Publisher	[s.n.], Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação
Source Sets	IBICT Brazilian ETDs
Language	Portuguese
Detected Language	Portuguese
Type	info:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis
Format	112f. : il., application/pdf
Source	reponame:Repositório Institucional da Unicamp, instname:Universidade Estadual de Campinas, instacron:UNICAMP
Rights	info:eu-repo/semantics/openAccess