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Medida de espessura de filmes finos com interferômetro de haidinger

Orientador: Jaime Frejlich / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-15T01:34:53Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1987 / Resumo: Apresentamos um método não destrutivo para medida de espessura de filmes finos transparentes depositados em substratos transparentes, usando um interferômetro de Haidinger. A partir das frações de interferência, medidas para vários comprimentos de onda, e do índice de refração para um único comprimento de onda, determinamos a espessura do filme e sua dispersão cromática, através de um procedimento analítico-numérico / Abstract: We introduce a non-destructive method for the thickness measurement of thin transparent films coated on transparent substrates, using a Haidinger interferometer. From the interference fractions measured for various wavelengths, and the refraction index for only one wavelength, we determine the film thickness and its chromatic dispersion through an analytic-numeric procedure / Mestrado / Física / Mestre em Física

Identiferoai:union.ndltd.org:IBICT/oai:repositorio.unicamp.br:REPOSIP/277996
Date28 October 1987
CreatorsOliveira, Elisabeth Andreoli de
ContributorsUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS, Frejlich, Jaime, 1946-
Publisher[s.n.], Universidade Estadual de Campinas. Instituto de Física Gleb Wataghin, Programa de Pós-Graduação em Física
Source SetsIBICT Brazilian ETDs
LanguagePortuguese
Detected LanguagePortuguese
Typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis
Format59f., application/pdf
Sourcereponame:Repositório Institucional da Unicamp, instname:Universidade Estadual de Campinas, instacron:UNICAMP
Rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess

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