Difração múltipla de raios-x no estudo de defeitos superficiais em semicondutores com implantação iônica

Description

Orientador: Lisandro Pavie Cardoso / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-20T01:39:31Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1995 / Resumo: Não informado / Abstract: Not informed. / Mestrado / Física / Mestre em Física

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1. HAYASHI, Marcelo Assaoka. Difração múltipla de raios-x no estudo de defeitos superficiais em semicondutores com implantação iônica. 1995. 51f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/278179>. Acesso em: 19 jul. 2018.
2. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278179

Tags

Raios X - Difração

Implantação iônica

Semicondutores

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:IBICT/oai:repositorio.unicamp.br:REPOSIP/278179
Date	23 February 1995
Creators	Hayashi, Marcelo Assaoka
Contributors	UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS, Cardoso, Lisandro Pavie, 1950-
Publisher	[s.n.], Universidade Estadual de Campinas. Instituto de Física Gleb Wataghin, Programa de Pós-Graduação em Física
Source Sets	IBICT Brazilian ETDs
Language	Portuguese
Detected Language	Portuguese
Type	info:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis
Format	51f. : il., application/pdf
Source	reponame:Repositório Institucional da Unicamp, instname:Universidade Estadual de Campinas, instacron:UNICAMP
Rights	info:eu-repo/semantics/openAccess