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Etude et caractérisation du matériau CuAI1% utilisé en tant que couche de germination pour améliorer les performances de fiabilité des interconnexions des technologies 45 nm et ultérieures

Thèse doctorat : Dispositifs de l'Electronique Intégrée : Villeurbanne, INSA : 2008. / Titre provenant de l'écran-titre. Bibliogr. p. 141-151.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/494788864
Date January 2008
CreatorsVanypre, Thomas Dupuy, Jean-Claude Gautier, Brice.
PublisherVilleurbanne : Doc'INSA,
Source SetsOCLC
LanguageFrench
Detected LanguageFrench

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