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[en] MEASUREMENT OF NEAR FIELD PROPAGATION MODES IN OPTICAL WAVEGUIDES / [pt] MEDIDAS DE CAMPO PRÓXIMO E MODOS DE PROPAGAÇÃO EM GUIAS DE ONDA ÓPTICOS

ALEXANDRE DE OLIVEIRA DAL FORNO 31 July 2006 (has links)
[pt] A caracterização do campo próximo em guias de onda ópticos torna-se indispensável quando se deseja confeccionar guias monomodo. Neste trabalho utilizou-se um sistema de medidas baseado na medida do campo próximo, para caracterizar guias de onda quanto ao seu conteúdo modal. Foram realizadas medidas do campo próximo de onda em GaAs/AlGaAs, com estruturas diferentes, para se verificar as suas características modais. Analisou-se, também, alguns parâmetros importantes nesta medida, como os alinhamentos e o ajuste do foco do sistema óptico. Baseado nos dados medidos, calculou-se o spot size dos guias nas direções horizontal e vertical, verificando-se a eficiência de acoplamento com fibras monomodo. Para se averiguar a precisão do sistema de medidas, uma fibra monomodo calibrada foi medida, verificando-se um erro de aproximadamente 1.5% nas medidas de spot size. / [en] Near field characterization of optical waveguides is extremely important in monomode waveguides production. This work has use a measurement system based on the near field measurement, for characterizing the modal contents of waveguides. In order to verify the modal characteristics of two GaAS/AlGaAs waveguides, with different structures, near fiels measurements were made. Important parameters, such as the alignment and the focal adjustment of the aoptical systems, were also analyzed. Using the results from the measurements, it was calculated the spot size of the waveguides in the horizontal and vertical directions, verifying the coupling efficiency with monomode fibers. A calibrated monomode fiber was measured to analyze the system precision. On using this measurement as a reference parameter a high precision was observed
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[en] STUDY OF THE CHARACTERISTICS OF MODULATORS OF AMPLITUDE MANUFACTURED WITH SEMICONDUCTING STRUCTURES INALAS/INGAAS AND ALGAAS/GAAS MQW / [pt] ESTUDO DAS CARACTERÍSTICAS DE MODULADORES DE AMPLITUDE FABRICADOS COM ESTRUTURAS SEMICONDUTORAS INALAS/INGAAS E ALGAAS/GAAS MQW

MARIA CRISTINA LOPEZ AREIZA 16 August 2005 (has links)
[pt] No presente trabalho de tese, se faz uma avaliação de moduladores de amplitude baseados no efeito de electro-absorção. As estruturas usadas para a fabricação dos dispositivos foram estruturas com poços quânticos múltiplos de InAlAs/InGaAs e AlGaAs/GaAs. As estruturas de InAlAs/InGaAs foram projetadas para trabalhar na faixa comercial das telecomunicações (1.55 µm). Por isto a importância de aperfeiçoar os parâmetros de desempenho do dispositivo, tais como Stark shift, chirp, razão de contraste, perda por inserção, entre outros. Um estudo sistemático prévio destas estruturas foi realizado por Pires [Pires,1998]. Ele propõe variar a concentração de gálio na liga para produzir uma leve tensão na estrutura e modificar desta forma as propriedades ópticas do material. O estudo de [Pires,1998] propôs uma faixa de valores para variar a concentração de gálio (entre 46 por cento e 52 por cento) onde pode ser encontrada a melhor condição de operação do dispositivo. Cabe a esta tese aprofundar o estudo nesta faixa de valores, e decidir os parâmetros mais adequados para operação. No referente às estruturas de AlGaAs/GaAs, se toma como partida uma proposta teórica de [Batty et al, 1993], e estudada posteriormente por [Tribuzy, 2001], onde se sugere usar finas camadas de dopagem delta nos poços de GaAs para melhorar o deslocamento Stark em 87% para um campo aplicado de 40 kV/cm. O dispositivo foi desenhado e fabricado, obtendo-se um valor de 78 por cento para o mesmo campo aplicado, resultado relevante, pois é a verificação experimental de uma proposta teórica. / [en] In this thesis work, is made an evaluation of modulators of amplitude based in the electrum-absorption effect. The structures used for the devices were multiple quantum wells of InAlAs/InGaAs and AlGaAs/GaAs. The structures of InAlAs/InGaAs are used to work in the commercial band of the telecommunications (1,55 µm). This is the reason it is important to optimize the parameters of performance of the device, such as the Stark shift, chirp, contrast reason, insertion loss, etc. Previously, a systematic study of these structures was made by [Pires, 1998], the gallium concentration was varied to produce a strain in the structure and to modify the optic properties of the material. In the study of [Pires, 1998] considered the Gallium concentration was varied between 46 percent and 52 percent in which range the best condition to operate the device can be found. This is part of the work here presented. In this thesis this range of values was studied in more detail. For the structures of AlGaAs/GaAs, a theoretical proposal of [Batty et al, 1993] was experimentally investigated. It was suggested a nipi structure to use a fine delta doped in the GaAs wells, this delta doped will improve in 87 percent the Stark shift for a field of 40 KV/cm. The device was simulated and manufactured, obtaining a value of 78 percent for the same field applied, this is a excellent result, because this confirm the theoretical prediction.

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