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[en] MEASUREMENT OF NEAR FIELD PROPAGATION MODES IN OPTICAL WAVEGUIDES / [pt] MEDIDAS DE CAMPO PRÓXIMO E MODOS DE PROPAGAÇÃO EM GUIAS DE ONDA ÓPTICOSALEXANDRE DE OLIVEIRA DAL FORNO 31 July 2006 (has links)
[pt] A caracterização do campo próximo em guias de onda ópticos
torna-se indispensável quando se deseja confeccionar guias
monomodo. Neste trabalho utilizou-se um sistema de medidas
baseado na medida do campo próximo, para caracterizar
guias de onda quanto ao seu conteúdo modal.
Foram realizadas medidas do campo próximo de onda em
GaAs/AlGaAs, com estruturas diferentes, para se verificar
as suas características modais. Analisou-se, também,
alguns parâmetros importantes nesta medida, como os
alinhamentos e o ajuste do foco do sistema óptico. Baseado
nos dados medidos, calculou-se o spot size dos guias nas
direções horizontal e vertical, verificando-se a
eficiência de acoplamento com fibras monomodo.
Para se averiguar a precisão do sistema de medidas, uma
fibra monomodo calibrada foi medida, verificando-se um
erro de aproximadamente 1.5% nas medidas de spot size. / [en] Near field characterization of optical waveguides is
extremely important in monomode waveguides production.
This work has use a measurement system based on the near
field measurement, for characterizing the modal contents
of waveguides.
In order to verify the modal characteristics of two
GaAS/AlGaAs waveguides, with different structures, near
fiels measurements were made. Important parameters, such
as the alignment and the focal adjustment of the aoptical
systems, were also analyzed.
Using the results from the measurements, it was calculated
the spot size of the waveguides in the horizontal and
vertical directions, verifying the coupling efficiency
with monomode fibers.
A calibrated monomode fiber was measured to analyze the
system precision. On using this measurement as a reference
parameter a high precision was observed
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[en] STUDY OF THE CHARACTERISTICS OF MODULATORS OF AMPLITUDE MANUFACTURED WITH SEMICONDUCTING STRUCTURES INALAS/INGAAS AND ALGAAS/GAAS MQW / [pt] ESTUDO DAS CARACTERÍSTICAS DE MODULADORES DE AMPLITUDE FABRICADOS COM ESTRUTURAS SEMICONDUTORAS INALAS/INGAAS E ALGAAS/GAAS MQWMARIA CRISTINA LOPEZ AREIZA 16 August 2005 (has links)
[pt] No presente trabalho de tese, se faz uma avaliação de
moduladores de
amplitude baseados no efeito de electro-absorção. As
estruturas usadas para a
fabricação dos dispositivos foram estruturas com poços
quânticos múltiplos de
InAlAs/InGaAs e AlGaAs/GaAs. As estruturas de
InAlAs/InGaAs foram
projetadas para trabalhar na faixa comercial das
telecomunicações (1.55 µm).
Por isto a importância de aperfeiçoar os parâmetros de
desempenho do
dispositivo, tais como Stark shift, chirp, razão de
contraste, perda por inserção,
entre outros. Um estudo sistemático prévio destas
estruturas foi realizado por
Pires [Pires,1998]. Ele propõe variar a concentração de
gálio na liga para
produzir uma leve tensão na estrutura e modificar desta
forma as propriedades
ópticas do material. O estudo de [Pires,1998] propôs uma
faixa de valores para
variar a concentração de gálio (entre 46 por cento e 52 por cento) onde
pode ser encontrada a
melhor condição de operação do dispositivo. Cabe a esta
tese aprofundar o
estudo nesta faixa de valores, e decidir os parâmetros
mais adequados para
operação. No referente às estruturas de AlGaAs/GaAs, se
toma como partida
uma proposta teórica de [Batty et al, 1993], e estudada
posteriormente por
[Tribuzy, 2001], onde se sugere usar finas camadas de
dopagem delta nos
poços de GaAs para melhorar o deslocamento Stark em 87%
para um campo
aplicado de 40 kV/cm. O dispositivo foi desenhado e
fabricado, obtendo-se um
valor de 78 por cento para o mesmo campo aplicado, resultado
relevante, pois é a
verificação experimental de uma proposta teórica. / [en] In this thesis work, is made an evaluation of modulators of
amplitude based
in the electrum-absorption effect. The structures used for
the devices were
multiple quantum wells of InAlAs/InGaAs and AlGaAs/GaAs.
The structures of
InAlAs/InGaAs are used to work in the commercial band of the
telecommunications (1,55 µm). This is the reason it is
important to optimize the
parameters of performance of the device, such as the Stark
shift, chirp, contrast
reason, insertion loss, etc. Previously, a systematic study
of these structures was
made by [Pires, 1998], the gallium concentration was varied
to produce a strain in
the structure and to modify the optic properties of the
material. In the study of
[Pires, 1998] considered the Gallium concentration was
varied between 46 percent and
52 percent in which range the best condition to operate the device
can be found. This is
part of the work here presented. In this thesis this range
of values was studied in
more detail. For the structures of AlGaAs/GaAs, a
theoretical proposal of [Batty et
al, 1993] was experimentally investigated. It was suggested
a nipi structure to
use a fine delta doped in the GaAs wells, this delta
doped will improve in 87 percent
the Stark shift for a field of 40 KV/cm. The device was
simulated and
manufactured, obtaining a value of 78 percent for the same field
applied, this is a
excellent result, because this confirm the theoretical
prediction.
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