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液相脈衝電漿放電法製備高純度之次微米級Al(OH)3及其應用 / Preparation of the High Purity Submicron Al(OH)3 by Pulsed Discharge Plasma in Water

廖冠宇, Guan-Yu Liao January 1900 (has links)
摘要 i Abstract ii 誌謝 iv 表目錄 vii 圖目錄 1 一、 緒論 6 1-1前言 6 1-2研究動機與目的 7 1-3氫氧化鋁介紹 8 1-3-1氫氧化鋁結構 9 1-3-2氫氧化鋁之應用 10 1-4氧化鋁介紹 11 1-4-1氧化鋁晶型及結構 13 1-4-2氧化鋁之應用 16 二、 文獻回顧 17 2-1電漿定義及特徵 17 2-1-1非熱電漿之理論 21 2-1-2液相脈衝電漿之原理 24 2-1-3顆粒形成流程 28 2-1-4電漿法製備無機物粉末 30 2-2 製備α相氧化鋁粉末 41 2-2-1拜耳法 43 2-2-2溶膠凝膠法 48 2-2-3水熱法 50 2-2-4機械球磨法 56 2-2-5沉澱法 57 2-2-6燃燒法 59 三、 實驗方法與步驟 60 3-1實驗藥品與設備 60 3-2研究內容 63 3-3實驗流程與架構 65 3-4 本實驗設計之綠能特色 68 四、 結果與討論 69 4-1 氫氧化鋁之產量及反應機構 69 4-2氫氧化鋁之X-Ray繞射儀分析(X-Ray Diffractometer,XRD) 74 4-3氫氧化鋁之EDS(X-Ray energy dispersive spectrometer)分析 77 4-4氫氧化鋁之FE-SEM分析 78 4-5氫氧化鋁之粒徑分析 91 4-6氫氧化鋁之比表面積分析分析 94 4-7氧化鋁之鍛燒溫度探討 98 4-8氧化鋁之持溫時間探討 105 4-9氧化鋁添加硝酸銀之探討 111 4-10氧化鋁添加造孔劑之探討 118 五、 結論 124 六、 未來工作 126 參考文獻 127

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