Proefschrift--Amsterdam. / "Stellingen" ([3] p.) laid in. Includes bibliographical references.

Nepřesnosti při výrobě a sestavení rotačně souměrné čočky a deflektrou a jejich přesného zařazení do elektronově optického systému se projeví jako dodatečné pole příslušné symetrie, které deformuje ideální zobrazení. Tato dodatečná pole dokážeme spočítat pomocí metody konečných prvků v programu EOD. Toleranční analýza spočívá ve stanovení požadavků na rozměry a sestavení jednotlivých prvků a jejich částí. Korekce vad seřízení pak spočívá v určení typu a polohy korekčních vychylovacích cívek a multipólů tak, aby se tyto dodatečné vady odstranily, nebo aby se minimalizoval jejich vliv. Cílem disertační práce je analýza projevů vad seřízení a chování neseřízených systémů prozařovacích elektronových mikroskopů.

The aim of this master's thesis is to explore and study dynamic aberration correction options in electron-beam lithography systems. For the calculations, the thesis uses the optical column of the BS600 electron-beam writer. The thesis focuses on corrections of the third order field curvature, astigmatism, and distortion aberrations of the currently used magnetic deflection system and a newly designed electrostatic deflection system. The parameters of the two deflection and correction systems were compared.