• Refine Query
  • Source
  • Publication year
  • to
  • Language
  • 1
  • 1
  • Tagged with
  • 2
  • 2
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • 1
  • About
  • The Global ETD Search service is a free service for researchers to find electronic theses and dissertations. This service is provided by the Networked Digital Library of Theses and Dissertations.
    Our metadata is collected from universities around the world. If you manage a university/consortium/country archive and want to be added, details can be found on the NDLTD website.
1

Diffusion thermique et sous irradiation du chlore dans le dioxyde d'uranium

Pipon, Yves Moncoffre, Nathalie. Toulhoat, Nelly January 2006 (has links) (PDF)
Reprodution de : Thèse de doctorat : Physique des matériaux : Lyon 1 : 2006. / Titre provenant de l'écran titre. 138 réf. bibliogr.
2

Study of C impurity effects in W coatings for fusion applications / Volframo su anglies priemaišomis dangų, naudojamų termobranduolinės sintezės reaktoriuje, tyrimas

Bobrovaitė, Birutė 19 September 2008 (has links)
The dissertation was implemented in-collaboration with international research centers in Europe, who participates in the development of new century thermonuclear reactors process. The existence of more than one plasma facing material at the ITER divertor target (CFC and W) can affect substantially the fuel retention properties of W by formation of deposited hydrocarbon layers and carbides and could lead to significant changes of the mixed-material properties with respect to that of the pure W material. The task of this work is to understand these effects by means of dedicated experimental studies to determine the influence of the various physics processes in the final erosion/redeposition pattern. The goal of the work is the fabrication of W films to be used in plasma – facing components in fusion devices, and the understanding of the mechanism of physical phenomena initiating modification of mechanical properties of W – based thin films on stainless steel substrates under Ar ion irradiation and under high-flux, low-energy H+ ions irradiation in the range of temperatures. During this work there were fabricated nanocrystalline W coatings on carbon based materials (including cfcs) using magnetron sputtering technique. Main parameters: area of deposits – 20 x 17 cm, thickness homogeneity – better than 20%, coating thickness – 3-6 µm. The microstructure of w coatings was densified by deposition under continuous ion bombardment and optimization of grain size and texture to improve... [to full text] / Tiriamasis darbas nagrinėja fundamentalias plazmos sąveikos su termobranduolinio reaktoriaus sienelėmis problemas. Jis atliktas bendradarbiaujant su tarptautiniais tyrimų centrais Europoje, dalyvaujančiais kuriant naujos kartos termobranduolinį reaktorių. W dangos, gautos magnetroniniu garinimo būdu, buvo paveiktos argono jonų su anglies priemaišomis spinduliuote esant skirtingiems slėgiams eksperimentiniame įrenginyje. Pagrindinis dėmesys sutelktas į teigiamų jonizuotų dalelių ir plazmos sąveiką su volframo danga anglies adsorbcijos metu ir jų poveikį volframo dangos savybėms. Darbe ištirtos ir išaiškintos sąlygos, prie kurių anglis, readsorbuota iš plazmos, efektyviai pernešama į W tūrį. Darbe parodyta, kad, vykstant vienalaikei C adsorbcijai ir joninei spinduliuotei, anglis efektyviai pernešama nuo paviršiaus į tūrį, kai W paviršius tik dalinai padengtas adsorbuota anglimi. Kai W paviršius padengtas ištisine C plėvele, anglies pernešimas nuo paviršiaus į tūrį yra blokuojamas. Gautų spinduliuote paveiktų dangų savybės buvo nagrinėjamos sekančiomis technologijomis: paviršiaus topografinė analizė atlikta naudojant skenuojantį elektroninį mikroskopą, atominės jėgos mikroskopą, dangų struktūra tirta su rentgeno spindulių difraktometru, dangų profilio analizė atlikta rusenančio išlydžio optinė spektroskopija. Panaudoti analizės metodai sudarė galimybes tirti dangų elementinę sudėtį, mikrostruktūrą, paviršiaus reljefą ir atlikti elementinės sudėties profiliavimą nuo paviršiaus... [toliau žr. visą tekstą]

Page generated in 0.0912 seconds