Orientador: Prof. Dr. Marcos Roberto da Rocha Gesualdi / Dissertação (mestrado) - Universidade Federal do ABC, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica, 2017. / Estudos da aplicação de moduladores espaciais de luz do tipo LCoS (Liquid Cristal on Silicon) e técnicas holográficas em substituição às máscaras no processo de fotolitografia são apresentados. Hologramas Gerados por Computador (HGC) a partir de duas imagens com dimensões conhecidas, simulando uma máscara de campo claro e uma máscara de campo escuro, foram aplicados a um modulador espacial de luz LCoS conectado a um arranjo óptico capaz de reduzir as imagens reconstruídas, permitindo o levantamento dos parâmetros de maior relevância no processo de fotolitografia para fabricação de estruturas micrométricas e, a partir da sua caracterização, identificar os limites impostos pelo modulador espacial de luz LCoS nesse processo. Registro das imagens, com diferentes dimensões, adquiridas à partir da reconstrução dos HGC provenientes das máscaras de campo claro e campo escuro, foram realizados através de uma câmera CCD e filmes de alta resolução. Os resultados permitiram a visualização e medição de estruturas com até 13 Pm e representam uma base de estudo na busca de alternativas para substituição das máscaras em processos de fotolitografia / Application studies of the Spatial Light Modulators LCoS type (Liquid Crystal on Silicon) and holographic techniques to replace the masks in the photolithography process are presented. Computer-generated Holograms (HGC) from two images with known dimensions, simulating a clear field mask and a dark field mask, were applied to a Spatial Light Modulators LCoS connected to an optical arrangement capable of reducing the reconstructed images, allowing the survey of the parameters of greater relevance in the process of photolithography to fabricate micrometric structures and from its characterization to identify the limits imposed by the Spatial Light Modulators LCoS in this process. Recording of the images, with different dimensions, acquired from the reconstruction of the HGC from clear field and dark field masks, were performed through a CCD camera and high resolution films. The results allowed the visualization and measurement of structures up to 13 ìm and represent a base of study in the search of alternatives for replacing the masks in photolithography processes.