No description available.

Для изучения электрофизических свойств широкозонных полупроводников собран модуль оптической стимуляции в микрозондовой станции CascadeMicrotechMPS150.Стимуляция производится светом полупроводникового лазера с длиной волны 532 нм. Управление лазером производится непосредственно из программы измерения характеристик материалов (написанной в среде LabView) и позволяет изменять мощность от 2 до 225 мВт/с путем изменения скважности управляющих импульсов. Разработан и собран модуль подогрева образца в микрозондовой станции CascadeMicrotechMPS150.Модуль имеет независимое от измерительного тракта управление нагревом и позволяет нагревать образец до 120 °С за 7,5 мин и поддерживать температуру образца с точностью до 0,1 °С. Разработан и собран модуль высокотемпературного отжига материалов. Модуль состоит из двух независимых блоков нагрева (950 ° С и 1300 °С)и позволяет производить отжиг материалов в вакууме и различных газовых средах. Максимальные размеры образца‒(Д х В х Ш, мм) –50х10х10, скорость нагрева в первом блоке до 950°С ‒7.5 мин., во втором до 1200°С‒103 минуты. / To study the electrophysical properties of wide-gap semiconductors, an optical stimulation module was assembled in a Cascade Microtech MPS 150 microprobe station. Stimulation is performed by the light of a semiconductor laser with a wavelength of 532 nm. The laser is controlled directly from the program for measuring the characteristics of materials (written in the LabView environment) and allows you to change the power from 2 to 225 mW / s by changing the duty cycle of the control pulses. A sample heating module was developed and assembled in the Cascade Microtech MPS 150 microprobe station. The module has heating control independent of the measuring path and allows heating the sample to 120 ° C in 7.5 minutes and maintaining the temperature of the sample with an accuracy of 0.1 ° C.A module for high‒temperature annealing of materials was developed and assembled. The module consists of two independent heating units (950 ° C and 1300 ° C) and allows annealing of materials in vacuum and various gaseous media. The maximum dimensions of the sample ‒ (L x W x H, mm) are 50x10x10, the heating rate in the first block to 950 ° C is 7.5 minutes, in the second to 1200 ° C for 103 minutes.