1 |
Осаждение и травление наноматериалов с использованием высоковакуумного плазмохимического модуля : магистерская диссертация / Deposition and etching of nanomaterials using a high-vacuum plasmachemical moduleКамалов, Р. В., Kamalov, R. V. January 2017 (has links)
Объект изучения – модуль плазмохимического травления и осаждения на базе нанотехнологического комплекса Нанофаб-100.
Цель работы — плазмохимический синтез тонких покрытий на основе нитридов алюминия и титана.
Методы исследования: плазмостимулированное химическое осаждение из газовой фазы, электрохимическое окисление, плазменное азотирование, сканирующая электронная и атомно-силовая микроскопия, оптическая спектроскопия, наноиндентирование.
В результате исследования разработана методика синтеза нитрида алюминия на установке плазмохимического синтеза.
Синтезированы тонкие пленки нитрида алюминия толщиной 50-200 нм. Продемонстрирована возможность получения наноточек нитрида алюминия. С помощью плазмохимического азотирования модифицирована поверхность металлического титана с увеличением твердости в 4 раза. Показана возможность получения нанотубулярных структур нитрида титана, являющихся перспективными в целях создания электронных устройств, фотокаталитических ячеек и др.
Результаты работы отражены в тезисах докладов III Международной молодежной научной конференции «Физика. Технологии. Инновации. ФТИ-2016». / The object of this study is the module of plasma chemical etching and deposition based on nanotechnology complex Nanofab-100.
The goal of the current paper is the plasma-chemical synthesis of thin coatings based on aluminum and titanium nitrides.
As a result of the research, a technological map for the routine of the plasma-chemical synthesis and a technique for obtaining nanomaterials on the example of aluminum nitride have been developed.
There were synthesized thin films of aluminum nitride with 50-200 nm thickness. The possibility of synthesis nano-dots of AlN is demonstrated. The surface of metallic titanium has been modified with an increase in hardness by 4 times using plasma-assisted nitriding process. The possibility of obtaining nanotubular structures of titanium nitride, which are promising for microelectronic and photocatalysis, is shown.
The results of the work are reported in abstracts of the III International Youth Scientific Conference «Physics. Technologies. Innovation. FTI-2016».
|
Page generated in 0.0308 seconds