Orientador: Daltro Garcia Pinatti / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-15T01:36:22Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Pacheco_HermesdoAmaral_M.pdf: 997609 bytes, checksum: e3f6adb328129ca69397bd481c0a8d17 (MD5) Previous issue date: 1977 / Resumo: A proposição inicail deste trabalho consistiu de um estudo de calor específico e possivelmente isotermas de absorção de 4He em um substrato metálico. Nada mais natural, portanto, que em um laboratório onde a direção central de pesquisa é o conhecimanto das propriedades físicas e do comportamento metalúrgico do Níobio, fosse escolhido esse metal para substrato. Construiu-se uma área ( Geométrica ) de aproximadamente 0,6 m2 composta de disco com 0,05 mm de espessura por 19 mm de diâmetro.Pretendia-se, através de uma combinação das técnicas de isotermas, calor específico e recristalização, obter uma superfície homogênea, acompanhando a evolução da homogeneidade através das medidas a baixas temperaturas. Devido à grande massa desta célula, ( ~ 200 g ) não foi possível encontrar uma condição adiabática para a calorímetrio. Uma nova célula foi construída ( ~ 15 g ). Numa pequena cápsula de cobre colocamos um monocristal de Níobio fraturado ( FNSC ) por hidrogenação. Foram feitas medidas de isotermas de pressão de vapor de 4He a 4,2 K, obtendo-se "degraus" correspondentes ao término das camadas adsorvidas. Obeteve-se os volumes da primeira e segunda camada, 1,1 cm3 e 0,9 cm3 respectivamente, a partir dos quais se calculou a densidade do filme para a primeira camada completa 0,0864 Å-2, o que equivale a uma área de adsorção de 0,6 m2/g. A área total do nosso substrato é de 3,421 m2. Nas medidas de calor específico, realizamos para três coberturas diferentes, 0,223, 0,232 e 0,359 de camada, observou-se três picos, cujas interpretações mais detalhadas podem ser encontradas no capítulo 5 / Abstract: Not informed. / Mestrado / Física / Mestre em Física

Orientador : Carlos V. D'Alkaine / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas / Made available in DSpace on 2018-07-16T21:28:45Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Kuri_SebastiaoElias_D.pdf: 4378278 bytes, checksum: fdabe6bb6d49e48933a0c47421b33d31 (MD5) Previous issue date: 1984 / Resumo: Neste trabalho estuda-se o efeito da adição de elevados teores de Nióbio (até 2% em peso) na formação e estabilidade de óxidos superficiais formados sobre aços inoxidáveis de baixo teor de carbono. Propõe-se um modelo fisico de crescimento do filme de óxido superficial, admitindo-se uma distribuição de energia livre superficial sobre um eletrodo sólido policristalino. Foi verificado o efeito do Nióbio no coeficiente de transferência de carga e na densidade de corrente na interface metal-filme, utilizando-se o modêlo proposto. Analisou-se o efeito do Nióbio na região de inicio da transpassividade em função da alteração das características semicondutoras do óxido superfície. Em seguida à região de transpassividade ocorre uma passivação secundária e uma segunda região transpassiva que ocorre simultaneamente com evolução de oxigênio. Nesta faixa de potenciais, as transformações que ocorrem no filme de óxido superficial são dependentes do potencial e da velocidade de varredura. Para baixas velocidades (v = 20 mV/seg) a taxa de transformação do filme é maior que a velocidade de variação do potencial, o que permite um rearranjo do filme para cada potencial. O envelhecimento eletroquímico a potenciais anódicos dentro da região passiva indica que o Nióbio influencia o processo de redução do filme de óxido superficial crescido em condições potenciostáticas ou potenciodinâmicas / Abstract: The effect of high level Niobium additions (up to 2 weight per cent) in the formation and stability of superficial oxide films grown on low carbon stainless steels was studied. A physical model is proposed to explain the oxide films growth, take into account the superficial free energy distribution on the polycrystalline solid electrode. This model allows the calculation of the charge transfer coefficient and interfacial metal-film current density and the evaluation of the Niobium effect on these parameters. It was analysed the Niobium influence in the beginning of the transpassivity region with respect of the superficial oxide semiconductor characteristic changes. After the transpassivity region a second passivity and a second transpassivity region occur simultaneously with oxygen evolution. In these regions the superficial oxide films transformations are potential and sweep velocities dependent. For low velocities (v = 20 mV/s) the film transformation rate is greater than the potential changes wich allows a film rearrangement for each potential. The electrochemical ageing in the anodic potential inside the passive region shows that thé reduction process of the passivating film grown in potentiostatic or potentiodynamic conditions is affected by the Niobium content / Doutorado / Doutor em Engenharia Mecânica