Thesis (Ph. D.)--University of Texas at Austin, 2003. / Vita. Includes bibliographical references. Available also from UMI Company.

Diese Arbeit beschäftigt sich mit der Synthese neuer photoreaktiver Polymere, die bei Bestrahlung mit Licht (Hg-Dampflampe, fs-gepulster Ti:Sa-Laser) definierte Reaktionen durchlaufen. Mittels kontrolliert-radikalischer Polymerisation und anschließender polymeranaloger Reaktion wurden verschiedene Azobenzen-Derivate, Arylazosulfonat-Derivate und photolabil geschützte Aminogruppen (Nitroveratryloxycarbonyl, Nvoc) in Methacrylat-Polymere eingeführt. Diese Strukturen wurden ausführlich hinsichtlich ihrer Struktur und vor allem ihrer photochemischen Eigenschaften (Extinktionskoeffizienten, Zerfallskinetik) untersucht. Dünne Schichten (d<30nm) der so hergestellten Materialien wurden bei der Entwicklung einer neuen photolithographischen Methode, der plasmonischen Nanolithographie, eingesetzt.:INHALTSVERZEICHNIS ABBILDUNGSVERZEICHNIS TABELLENVERZEICHNIS ABKÜRZUNGS- UND SYMBOLVERZEICHNIS 1 EINLEITUNG UND ZIELSTELLUNG 2 THEORETISCHE GRUNDLAGEN 2.1 PHOTOREAKTIVE POLYMERE 2.1.1 Azobenzenhaltige Polymere und deren Anwendungen 2.1.2 Arylazosulfonathaltige Polymere und deren Anwendungen 2.1.3 Photolabil geschützte Amine in Polymeren und zur Oberflächenstrukturierung 2.2 NICHT-LINEAR OPTISCHE EFFEKTE - FREQUENZVERDOPPLUNG 2.3 OBERFLÄCHENPLASMONENRESONANZ UND SHG AN METALLISCHEN NANOPARTIKELN 2.4 PHOTOCHEMISCHE STRUKTURIERUNG DÜNNER SCHICHTEN 2.5 NANOLITHOGRAPHISCHE STRUKTURIERUNG MITTELS PLASMONISCHER EFFEKTE AN METALLNANOSTRUKTUREN 3 ERGEBNISSE UND DISKUSSION 3.1 AZOBENZENHALTIGE POLYMERE 3.1.1 Synthese niedermolekularer Azobenzen-Derivate 3.1.2 Anbindung an Polymermatrix 3.1.3 Photochemische matrixabhängige Untersuchung der Isomerisationskinetik 3.1.4 Bestrahlung in dünnen Schichten mit gepulstem Femtosekunden-Laser 3.2 ARYLAZOSULFONATHALTIGE POLYMERE 3.2.1 Kontrolliert-radikalische Polymerisation von Arylazosulfonat-Monomeren 3.2.1.1 Synthese der arylazosulfonathaltigen Monomere 3.2.1.2 RAFT-Polymerisation von (AS-Mon2) 3.2.2 Polymeranaloge Einführung von Arylazosulfonateinheiten 3.2.3 Präparation und Bestrahlung dünner Schichten 3.3 PHOTOLABIL GESCHÜTZTE AMINOPOLYMERE 3.3.1 Synthese von statistischen Nvoc-geschützten Aminocopolymeren 3.3.1.1 Anbindung des Nvoc-geschützten Amins über Esterbindung 3.3.1.2 Anbindung des Nvoc-geschützten Amins über Reaktion mit Nvoc-Cl 3.3.2 Nvoc-haltige Diblockcopolymere 3.3.2.1 Synthese von P(MMA-co-GMA)-b-P(MMA-co-NvocCMS) 3.3.2.2 Synthese von P(MMA-co-MAA)-b-P(MMA-co-NvocAEMA) 3.3.3 Präparation dünner Schichten der (Block-)Copolymere 3.3.4 Bestrahlung mit gepulstem Femtosekunden-Laser 4 ZUSAMMENFASSUNG UND AUSBLICK 5 EXPERIMENTALTEIL 5.1 ANALYTISCHE METHODEN 5.2 AUFBAU FÜR DIE FS-LASER-BESTRAHLUNG 5.3 VERWENDETE CHEMIKALIEN 5.4 SYNTHESEN 5.4.1 Azobenzen-Derivate 5.4.1.1 Niedermolekulare Verbindungen 5.4.1.2 Polymerisationen und polymeranaloge Reaktionen 5.4.2 Arylazosulfonate 5.4.2.1 Niedermolekulare Verbindungen 5.4.2.2 Freie radikalische Polymerisation 5.4.2.3 RAFT-Polymerisationenen 5.4.2.4 Polymeranaloge Reaktion 5.4.3 Nvoc-geschützte (Block-)Copolymere 5.4.3.1 Niedermolekulare Verbindungen 5.4.3.2 Polymerisationen 5.4.3.3 Polymeranaloge Reaktionen 5.5 WAFERREINIGUNG UND PRÄPARATION DÜNNER SCHICHTEN LITERATURVERZEICHNIS DANKSAGUNG VERSICHERUNG